TY - JOUR AU - O.A. Gómez-Vargas AU - J. Oseguera-Peña AU - M. Ortiz-Domínguez AU - J.A. García-Macedo AU - J. Solís-Romero AU - V.A. Castellanos-Escamilla AU - U. Figueroa-López AU - A. Arenas-Flores AU - F.R. Barrientos-Hernández AU - E. Cardoso-Legorreta PY - 2015/09/01 Y2 - 2024/03/28 TI - Formación de películas delgadas base TiN sobre un acero AISI M2 mediante la técnica de PVD JF - Tópicos de Investigación en Ciencias de la Tierra y Materiales JA - aactm VL - 2 IS - 2 SE - Artículos DO - 10.29057/aactm.v2i2.9712 UR - https://repository.uaeh.edu.mx/revistas/index.php/aactm/article/view/9712 AB - La deposición de películas delgadas de TiN con unos cuantos nanómetros de espesor se llevó a cabo a través de pulverización catódica reactiva de un blanco de Ti en una atmósfera de Ar+N utilizando una fuente de alimentación CC. Las películas depositadas se realizaron sobre probetas de acero AISI M2 cortadas de una barra de 1 a 1.5” de diámetro con espesores máximos de 8 mm. Finalmente, se caracterizaron las capas de TiN empleando diversas técnicas que incluyen: Microscopía Óptica (OM), Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) vinculado con la Espectroscopia de Energía Dispersiva (EDS), Pin on disc y Scratch. ER -