Metalización por Sputtering usando un horno porta-sustrato ad-hoc - Toraya-Echeverria, Raúl; Loeza-Poot, Mariely; Mis-Fernández, Ricardo; Camacho-Espinosa, Eduardo; Meneses-Rodríguez, David; Flores Cuevas, Eduardo (Pädi Boletín Científico de Ciencias Básicas e Ingenierías del ICBI, 2024)
En este trabajo se presenta el diseño, fabricación, y puesta a punto de un horno porta-sustrato utilizado para depositar películas delgadas metálicas por la técnica de Sputtering. El sistema debe ser capaz de soportar condiciones de alto vacío y alta temperatura, así como adecuarse dentro de una cámara de vacío en forma cilíndrica, teniendo como principal reto la distribución de los componentes al tratarse de un sistema compacto y de bajo costo. El horno porta-sustrato fue diseñado de forma octagonal mediante software CAD, usando para su fabricación acero inoxidable, cerámica, grafito, lámparas de cuarzo, entre otros. Para la caracterización del horno, se realizaron curvas de calentamiento ajustando la potencia de las lámparas. Con el fin de evaluar la funcionalidad del sistema, se depositaron y caracterizaron películas delgadas de Ag en sustratos de vidrio; así mismo, se realizó la metalización con Ag de los contactos posteriores de una celda solar de película delgada basada en CdTe.