Estudio electroquímico de la electrodepositación de cobre sobre ultramicroelectrodos de Pt

J. A.  Corona Castro; L. H.  Mendoza Huizar

doi:10.29057/aactm.v5i5.9123

Autores/as

J. A. Corona Castro Universidad Autonoma del Estado de Hidalgo
L. H. Mendoza Huizar Universidad Autonoma del Estado de Hidalgo https://orcid.org/0000-0003-2373-4624

DOI:

https://doi.org/10.29057/aactm.v5i5.9123

Palabras clave:

Ultramicroelectrodo, Cobre, Platino, Electrodepositación, Cinética

Resumen

En el presente trabajo se realizó un estudio electroquímico para analizar el proceso de electrodepositación de cobre sobre ultramicroelectrodos (UMEs) de Pt de diferentes diámetros (10, 15 y 25 μm); a partir de una solución acuosa de CuSO₄ 1 mM y (NH₄)₂SO₄ 0.1 M como electrolito soporte. A partir del estudio voltamperométrico se encontró que el proceso de reducción comienza en -0.4 V mientras que el de oxidación en 0.5 V. Para determinar el mecanismo de nucleación y crecimiento de los electrodepósitos de cobre, se realizó un análisis cinético a partir de los transitorios obtenidos a partir del estudio cronoamperométrico. Mediante ajustes no lineales del modelo matemático propuesto por Barin et al., aplicado a los transitorios potenciostáticos experimentales, se encontró que el proceso se encuentra controlado por la difusión.

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