Proceso de evaporación, caracterización y cálculo del FC de SiO2
Resumen
En este trabajo se describe de manera general las condiciones de uso de una máquina evaporadora de la marca Balzers, modelo BA510A y un cañón de electrones de la marca Island e-Beam, modelo HVCEB-8. Se explica el proceso para realizar depósitos de dióxido de silicio sobre sustrato de vidrio F2, utilizando una razón de depósito de 3.0 Å/s. Se presenta los resultados de medición en transmitancia realizados en un Espectrofotómetro de la marca Perkin Elmer, modelo Lambda 3B correspondiente a las películas depositadas de 200 nm, 250 nm, 300 nm, 350 nm y 400 nm de espesor. Se describe el procedimiento para diseñar películas delgadas con las características similares a las experimentales utilizando el software FilmStar en su versión gratuita. Posteriormente se describe una forma de calcular el factor de corrección para futuros depósitos de dióxido de silicio. Finalmente, se agrega una parte de discusiones donde se expone las limitaciones de nuestro estudio y la manera de minimizarlas
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Citas
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